Luận văn Tổng hợp màng tin bằng phương pháp sputter- Ion- plating (sip)
(Bản scan) Trong công trình này chúng tôi chọn thiết bị lamf việc với nguồn đốt nhiệt điện trở bằng Wolfram. Ở đây hơi kim loại TI được phát ra từ nguồn nhiệt điện trở có công suát 0.5 - 1 kw và phản ứng để tạo thành Tin được tăng cương bởi các điện tử năng lượng tấp từ nguồn phát xạ nhiệt đeiẹn tử công suất 400 w
Các file đính kèm theo tài liệu này:
 5.PDF 5.PDF
 0_3.PDF 0_3.PDF
 1_2.PDF 1_2.PDF
 2.PDF 2.PDF
 3.PDF 3.PDF
 4_2.PDF 4_2.PDF
 6_2.PDF 6_2.PDF
 7.PDF 7.PDF
 8.PDF 8.PDF
 TranTheHuong.jpg TranTheHuong.jpg
 
    



